全自動對位曝光機

DNK 大日本科研所設計之全自動的線路曝光設備,將塗有光阻的基板與光罩重疊,並具有多層曝光的自動對位功能,自動進行基板的供給、對位、曝光、排出等動作。

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無光罩式曝光機

I-04T MX-1200DNK Maskless 系列是通過美國德州儀器公司製造的Digital Micromirror Device(DMD)來形成曝光圖形, 由於不需要製作光罩,所以可降低成本。特別適合少量多類別的生產及研究開發等。

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捲帶式曝光機

DNK 大日本科研針對各種軟性基板的需求所設計之高精準度自動對位曝光設備,可實現軟性、薄型、清亮基板的大量生產。

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光罩清洗機

Auto mask Cleaner-100Technovision之光罩清洗機,全自動機台對應,僅須將Mask cassette置入,搭配自有研發藥液(台灣製造),加上Hot DI Water的Rinse及吹乾(不殘留水痕),不但藥液能量身客製化對應,可大幅提升光罩潔淨度,降低客戶購買藥液成本費用外,增加光罩潔淨度下,亦可大幅提升產品良率。

光激發光光譜量測系統

Pl Mapping System日本Ysystems製專業量測儀器,提供2、3、4、6吋晶圓光激發光自動傳動量測系統,精準量測LED/LD磊晶層厚,機體輕巧操作簡易。

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微波電漿表面處理及清洗機

Plasma Surface Treatment Cleaning System

PVA TePla致力研發先進的微波電漿科技,提供獨家OLED/PLED玻璃表面清洗、活化與改質(親水/斥水表面)以及ITO電極、PCB、工業電子元件、印刷表面清潔之專業處理技術,為表面清洗與改質的理想設備。

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批次性覆晶壓合機

TecLin研發之FCB,在LED覆晶壓合的最新應用上,導入成熟的ACP製程技術,適合高產出的批量形式壓合製程,為目前共晶壓合諸多問題提供解決方案。

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