全自動曝光機

產品廠商: 大日本科研

MA4200系列的機台為全功能一體化的曝光設備,提供高精密度的光阻曝光技術,並以自動化高速、平穩的真空吸附方式移動基材,可提昇生產效能,並可適用於LED、Wafer MEMS、Touch panel或醫療學術界等任何須要曝光的產業。

Auto Aligner

設備與技術

  • 高速、高精確度的曝光表現
  • 高產能、低成本
  • 自動對位曝光粗化晶圓
  • 高效率三隻手臂傳送方式

主要應用

  • LED曝光製程
  • Wafer MEMS曝光製程
  • Touch Panel
  • 學校或醫療單位

詳細規格

Substrate Size Sapphire 2”/4” or 4”/6”
Mask Size 5”× 5”or 7” x 7”
Light source Super-high pressure 500W lamp
Intensity 19mw/cm2 or more (I Line)
Intensity uniformity <±3%
Effective exposure area 150 x 150mm
Throughput 150~160pc/Hour*Condition: expo.time 3 sec , proximity Exp. 1 lot leveling 1 time
Pre alignment accuracy <±50um
Alignment accuracy GA-Lite:微分法: ±1um; Pattern Matching: ±2um