原廠簡介

日本Technovision株式會社在半導體、LCD、磁碟等高科技產業方面,對提高製造工序的成品率、提高質量及自動化、省力化作出了巨大貢獻。

設備簡介

TWC-200A 與TWC-304A全自動光罩清潔系統,分別可支援最大7吋與14吋的光罩尺寸,用於自動去除粘附在光罩上的殘留物和大於1μm的顆粒。全自動機台對應,僅須將光罩晶舟置入,按下『開始』按鈕即可輕鬆完成清洗。搭配自有研發藥液(台灣製造),加上熱純水的潤洗及吹乾(不殘留水痕),不但藥液可針對需求客製化對應,可大幅提升光罩潔淨度,降低客戶購買藥液成本費用外,在增加光罩潔淨度下,亦可大幅提升產品良率。

Auto mask Cleaner-2Auto mask Cleaner-1

設備特色

  • 完全去除殘留物及大於1μm的顆粒
  • 光罩可以永久使用,不會對環境造成傷害
  • 不會傷害光罩表面
  • 全功能一體化,獨立系統適合雙面光罩清潔,節省空間
  • 單槽或雙槽藥液搭配,應用範圍廣大且有多樣選擇
  • 自有特殊藥液對應各種難去除的PR或Particle
  • 完全客製化系統

詳細規格

Mask Size 5”x  5”,7”x  7”,11”x  11”,14”x  14”..etc
Process Supply 2  chemical tank
1 Hot DI Wafer/ Rinse/air flow
Auto robot mask transfer
Mask cassette loading port 1 port
Mask amounts 25 pc

 

設備影片