原廠簡介

DNK大日本科研以製造各種顯示器、電子產品用曝光裝置為主,也設計研發融合了光學、精密機械、電子控制、各軟體技術的光機電一體化工程裝置及液晶顯示幕製造裝置。

設備簡介

全自動的線路曝光設備,將塗有光阻的基板與光罩重疊,並具有多層曝光的自動對位功能,自動進行基板的供給、對位、曝光、排出等動作。

設備特色

  • 採用獨自的平行設定機構,高精準的設定光罩與基板間的距離
  • 自行研發的高速圖像處理技術,可達到高精度對位的需求
  • 各種易碎機板的幾決方案
  • 高速與高精密的傳送設計

詳細規格

型號 MA-4000
Wafer尺寸 Ø2~4″ Ø4~6″ Ø6″~8″
光罩尺寸 5″ 7″ 9″
光源 超高壓汞燈 :500W or 1kW( 可依客戶指定)
尺寸 本體尺寸 W1340 x D1430 x H1900mm
本體重量 1120kg