原廠簡介
DNK大日本科研以製造各種顯示器、電子產品用曝光裝置為主,也設計研發融合了光學、精密機械、電子控制、各軟體技術的光機電一體化工程裝置及液晶顯示幕製造裝置。
設備簡介
全自動的線路曝光設備,將塗有光阻的基板與光罩重疊,並具有多層曝光的自動對位功能,自動進行基板的供給、對位、曝光、排出等動作。
設備特色
- 採用獨自的平行設定機構,高精準的設定光罩與基板間的距離
- 自行研發的高速圖像處理技術,可達到高精度對位的需求
- 各種易碎機板的幾決方案
- 高速與高精密的傳送設計
詳細規格
型號 | MA-4000 | |||
Wafer尺寸 | Ø2~4″ | Ø4~6″ | Ø6″~8″ | |
光罩尺寸 | 5″ | 7″ | 9″ | |
光源 | 超高壓汞燈 :500W or 1kW( 可依客戶指定) | |||
尺寸 | 本體尺寸 | W1340 x D1430 x H1900mm | ||
本體重量 | 1120kg |