步进式曝光机

厂牌:大日本科研

DNK Stepper具备高精准度对位与模数对应系统,可转换光学参数,依照曝光对象来转换投影镜片的开口数(NA),照明光学系的光圈(8 Sigma)与曝光波长(λ);实现高深度曝光,随着不同曝光对象来对应焦点深度,可在MEMS、LED等制造; 3次元device试作中对应光阻厚膜与高度段差;并完全支持导入到镜片(芯片)的评估与挑选,由DNK专门实验室进行专业样本测试。

DNK Stepper

设备与技术

  • 三款可更换式镜组,曝光应用范围广大且有多样选择
  • 高精准度对位系统
  • 全功能一体化高阶曝光机
  • 高照度的光学系统
  • 完全客制化系统
  • 支持导入、检入到镜片(芯片)的评估、挑选
  • 高产出量产化机台

主要应用

  • LED曝光制程
  • Sapphire曝光应用
  • SAW曝光应用
  • MEMS曝光制程
  • LCD曝光应用

详细规格

Wafer SizeΦ2"- 12"; Max 300mm x 300mm
Process Supply2 kw lamp
6 pcs reticle stocker
Changeable NA aperture
Resolution 0.5-1 um for Sapphire, LED, SAW
1-2.5 um for MEMS, LCD
2.5- um for advanced package & ceramic