原廠簡介

DNK大日本科研以製造各種顯示器、電子產品用曝光裝置為主,也設計研發融合了光學、精密機械、電子控制、各軟體技術的光機電一體化工程裝置及液晶顯示幕製造裝置。

設備簡介

無光罩曝光機是通過美國德州儀器公司製造的Digital Micromirror Device(DMD)來形成曝光圖形,因此不需要光罩。運用高速描寫Point of array 技術,直接將圖形描繪於基板,可降去除光罩製作及管理的成本。

I-04T MX-1200

設備特色

  • 直接描寫的運用,不需要再製作管理光罩
  • 自行開發的Point of array技術,實現低成本高精準度的需求
  • 各種尺寸基板皆可配合製作

詳細規格

型號/Type

MX-1201

MX-1201E

Minimum line width

5um

3um

Data resolution

0.5um

0.25um

Laser wave length

375±5nm, 405±5nm

Scanning speed

43.9 mm/s

22.5 mm/s

Tact time (Maximum Exposure)

150s, 120mj/cm2

250s, 220mj/cm2

Main body dimension

1800 (W) x 1260 (D) x 1900 (H) mm (依實際Work size而有變動)

Main body weight

8820N (900[kgf])

17640N (1800[kgf])

Power Supply

3φAC200/220V-30A, 50/60Hz