DNK曝光設備



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MA1200系列

    

規格與技術
適合多品種・小批量生產及實驗・研究的手動曝光裝置。 (有效曝光範圍φ6 inch )
• 搭載獨特的鏡面・鏡片光學系統及高速畫像處理。可對應單眼對位。搭載背面對位功能
• 可進行切割基板・破片基板的對位曝光。 (可對應單眼對位)
• 對應四種曝光模式。 (近接式, Vacuum-contact, Hard-contact, Soft-contact)
• 縮小占地面積,實現節省空間。操作人員可坐著作業。



MA4200系列
 
     

規格與技術
• 2”~4”, 4”~6”基板使用
• 高速、高精確度的曝光表現
• 高產能低成本
• 高速的圖像處理技術,實現高機度的對位



MA5000系列
 
  

規格與技術
• 搭載自家開發的鏡面光源裝置/光房(Lamp house)。照射面均勻且照度高
• 採用獨特同軸曝光方式及高速影像處理技術達到高精度的曝光。(也可對應IR或backside-view)
• 獨特的光學式Gap sensor,光罩及基板間隙為非接觸方式並可高速・高精度的設定
• 搭載Mask Liberay。自動交換光罩最多可達20片

•Load port 最多可搭載三個cassette

Maskless系列

    


特色與規格

• 能夠用於研究開發、試作、小批量生產等的直描曝光
• 能夠對應以高端PCB、高密度Packaging、平板顯示(FPD)等為首的MEMS等微細加工領域
• 由於在光刻工藝中不需要掩膜,因而可以最大限度地降低開發成本和縮短市場供應時間
• 此外,還可以根據客戶需求,提供相應的裝置構造


 

Roll to Roll 曝光裝置
軟性基板的曝光設備



 
特色與規格

•可對應500mm或更大的軟性基板
•可選擇單面曝光或是雙面曝光
•可客制化設計傳送機構